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徳永 興公; 南波 秀樹; 鈴木 伸武
Int.J.Appl.Radiat.Isot., 36(10), p.807 - 812, 1985/00
被引用回数:14 パーセンタイル:83.03(Nuclear Science & Technology)放射線によるSOおよびNOx除去に対する微粉シリカの添加効果を、NOx,SO,水分,酸素,窒素の混合ガスを用いて、120Cでの1.5MeVの電子線による照射下で検討した。SO,NOx濃度とともに、微粉シリカの添加によって減少した。このSO,NOxの減少は、水分におおわれた微粉シリカの表面へのこれらの物質の吸着に起因するものであり、この吸着は、Langmuirの吸着等温式にしたがった。照射によるNOxの減少は、微粉シリカの添加によっていちじるしく促進された。この促進効果は、SO共存下でのみ起る。水におおわれた微粉シリカ表面へのNOの吸着および吸着水との反応によるNOの除去の二つの反応によって引き起こされることを明らかにした。